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FICHOU : Optimask rejoint le groupe HEF

La société OPTIMASK est fière de rejoindre le groupe HEF qui poursuit sa diversification dans la photonique en France. Spécialisée dans la photolithographie et les couches minces associées, OPTIMASK complète les activités du pôle photonique du groupe HEF (KERDRY, FICHOU, ACERDE en France et ABRISA TECHNOLOGIES aux Etats-Unis).